PECVD-24000等離子體化學氣相淀積臺(帶Load_Lock裝置)

詳細描述

本設備采用PLC控制,觸摸顯示屏操作。其數字化參數界面和自動化操作方式為用戶提供了優良的研發和生產平臺。

本設備通過對真空系統、下游壓力閉環控制、射頻電源、氣體流量及工藝過程的全自動控制,以及所具有的安全互鎖、智能監控、在線狀態記憶、斷點保護等功能。使設備的安全性、重復性、穩定性、可靠性得到有效保證。


產品主要性能指標:


型號

PECVD-24000

真空系統

進樣室:機械泵系統;刻蝕室:分子泵機組

樣品尺寸

500×400mm

淀積材料

SiO2、Si3N4

淀積不均勻性

≤ ±5%

自動化程度

真空系統、機械手送/取樣片、下游壓力閉環控制、射頻電源、氣體流量、工藝過程全自動控制。

人機界面

Windows環境、觸摸屏操作

操作方式

全自動方式、非全自動方式

配套件選配

可選擇進口件或國產件

送/取樣片方式

機械手自動送/取片


本設備帶有進/取樣室、真空鎖和機械手自動送/取樣片裝置。主要用于平板顯示中玻璃基板上(500×400mm)淀積SiO2,Si3N4等。

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